荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML首席執(zhí)行官克里斯托夫·福凱特在接受NRC采訪時(shí)透露，中國(guó)在芯片制造領(lǐng)域仍落后于西方10至15年。ASML是全球唯一生產(chǎn)極紫外光刻機(jī)（EUV）的公司，這些機(jī)器每臺(tái)價(jià)值數(shù)億美元，能夠?qū)?fù)雜的電路圖案以比頭發(fā)還細(xì)的線條刻印在硅片上。最新的高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)更是能生產(chǎn)更先進(jìn)的芯片。

盡管中國(guó)最大的芯片代工廠中芯國(guó)際（SMIC）和制造商華為在面對(duì)美國(guó)出口管制和制裁的情況下，仍成功生產(chǎn)出支持5G的7納米芯片，但福凱特指出，由于無(wú)法獲得EUV光刻機(jī)，中國(guó)的芯片制造技術(shù)仍遠(yuǎn)落后于西方。目前，中芯國(guó)際只能使用較舊的深紫外光刻機(jī)（DUV），這使得其生產(chǎn)的芯片節(jié)點(diǎn)遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于臺(tái)積電和三星代工目前使用的3納米節(jié)點(diǎn)。明年，臺(tái)積電和三星代工將開(kāi)始量產(chǎn)2納米節(jié)點(diǎn)的芯片。

ASML仍然向中國(guó)銷售DUV光刻機(jī)，并提供維修服務(wù)。美國(guó)試圖阻止ASML在中國(guó)進(jìn)行DUV光刻機(jī)的維修，但ASML有充分的理由繼續(xù)提供這些服務(wù)。如果ASML停止維修，中國(guó)可能會(huì)通過(guò)自行維修學(xué)習(xí)到敏感的技術(shù)信息，進(jìn)而仿制DUV光刻機(jī)。因此，ASML希望避免這種情況的發(fā)生，繼續(xù)保持與中國(guó)市場(chǎng)的良好業(yè)務(wù)關(guān)系。

華為和中芯國(guó)際正在努力開(kāi)發(fā)自己的光刻工具，希望最終能夠生產(chǎn)與臺(tái)積電和三星代工相同工藝節(jié)點(diǎn)的芯片。然而，這一過(guò)程可能需要10至15年的時(shí)間。屆時(shí)，臺(tái)積電、三星代工和其他西方代工廠可能已經(jīng)使用更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，生產(chǎn)出更加先進(jìn)的芯片。